كريم مكثف يغذي البشرة ويرطبها بعمق. يخلق حاجزا ضد العوامل البيئية السلبية.
كيفية الاستخدام
ضعيه على بشرة نظيفة عن طريق التدليك بلطف بحركات دائرية.
المكونات المميزة
زيت شجرة الشاي: ينقي البشرة ويهدئها بينما يشجع الخصائص العلاجية للبشرة المعرضة لحب الشباب.
السكوالين: السكوالين الطبيعي من أصل نباتي. يعمل مثل زيت البشرة لمنع فقدان الرطوبة واستعادة الليونة.
قائمة المكونات الكاملة
الفازلين، زيت البارافينوم السائل/الزيت المعدني، زيت شجرة الشاي/زيت أوراق نبات الميلاليوكا ألترنيفوليا، آيزوبروبيل ميريستات، السكوالين، زيت فول الصويا/جلايسين زيت فول الصويا، مستخلص جذور داكوس كاروتا ساتيفا، بيتا كاروتين، توكوفيرول.
حجم المنتج
2.7
منتجات ذات صله
1 متوفر في المخزون
أكوا (ماء) ، زيت معدني ، جلسرين ، كحول سيتيل ، سيتاريث -20 ، جليسريل ستيرات إس إي ، ميريستيل ميريستات ، حمض دهني ، ثنائي الميثيكون ، فينوكسي إيثانول ، عطر (رائحة) ، صمغ الزانثان ، زيت فاكهة أوليا يوروبا ، مستخلص الكاموميلا ريكوتيتا (ماتريكاريا) ، توكوفيرل أسيتات (فيتامين E) ، إيثيل هكسيل جلسرين.
31 متوفر في المخزون
أكوا (ماء) ، كبريتات لوريث الصوديوم ، كوكاميدوبروبيل بيتين ، لوريل جلوكوزيد ، كوكاميد DEA ، كلوريد الصوديوم ، عطر (رائحة) ، ميثيل كلوروثيازولينون ، ميثيل أيزوثيازولينون ، خلاصة لافاندولا أنجستيفوليا ، خلاصة زهرة أرنيكا مونتانا ، حمض الستريك ، كحول البنزيل ، (D&C Red رقم 33) ، CI 42090 (FD&C Blue رقم 1).
20 متوفر في المخزون
<5٪ غير أيوني خافض التوتر السطحي ، مضاد للكهرباء الساكنة ، عامل كيمائي خالب، مادة حافظة.
ماريس سال ، أكوا (ماء) ، كابريليك / كابريك ثلاثي الجليسريد ، جلسرين ، سيتاريث -20 ، حمض دهني ، كحول سيتيل ، ميريستيل ميريستات ، زيت بذور هيليانثوس أنوس (زهرة الشمس) ، جليسريل ستيرات SE ، زيت برونوس أميجدالوس دولسيس (اللوز الحلو) ، زيت بذور Simmondsia Chinensis (الجوجوبا) ، عطر (العطر) ، بنزوات البنزيل ، Hexyl Cinnamal ، Linalool ، الليمونين ، CI 42090 (FD & C Blue No. 1).
13 متوفر في المخزون
دانات الكحول ، أكوا (ماء) ، عطر (عطر) ، بروبيلين جليكول ، لينالول ، بوتيل فينيل ميثيل بروبيونال ، بنزيل ساليسيلات ، ليمونين ، هيدروكسي أيزوهيكسيل- 3-سيكلوهكسين كاربوكسالديهايد ، جيرانيول ، سيترونيلول ، كومارين ، سيترال.
28 متوفر في المخزون
التعليقات
لا توجد توصيات بعد.